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真空炉的工艺温度常达1200-2000℃,金属发热体(如钼、钨)在1600℃以上会软化变形,陶瓷载具(如氧化铝)在急冷急热时会炸裂,而高纯石墨(固定碳≥99.9%)在2800℃以下功能稳定,热膨胀系数仅 是金属的1/10。
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真空炉的作业环境(高温、低气压、洁净要求)对资料是“终极检测”
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真空炉的“心脏部件”——石墨制品,以2800℃以下功能安稳、半导体级洁净度和导电导热可控叁大优势,成为高端制作的隐形基石。
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真空炉石墨件在3000℃高温下仍保持稳定,兼具超强导热与抗热震性能,是航空航天、半导体等作业高温处理的核心资料。
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真空炉的工艺温度常达 1200-2000℃,金属发热体(如钼、钨)在 1600℃以上会软化变形,陶瓷载具(如氧化铝)在急冷急热时会迸裂,而高纯石墨(固定碳≥99.9%)在 2800℃以下功用稳定,热膨胀系数是金属的 1/10
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优势:结合碳纤维增强体与石墨基体,导热系数达200 - 300W/m·K,抗热震功用明显优于纯石墨。
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检测内容:灰分(无机残留物)、金属杂质(如贵别、狈颈)含量。